Полевой транзистор с затвором Шоттки (MESFET транзистор) работает подобно
полевому транзистору с
Этот вид транзисторов в настоящее время изготавливается на основе арсенида галлия (GaAs), хотя имеются варианты, выполненные на нитриде галлия (GaN). Упрощённая структура полевого транзистора с затвором Шоттки на арсениде галлия приведена на рисунке 1.
Рисунок 1. Упрощённая структура полевого транзистора с затвором Шоттки на арсениде галлия
Выбор арсенида галлия в качестве основы для изготовления полевых транзисторов основывается на его преимуществах по сравнению
с кремнием. Основное преимущество — это более высокая подвижность электронов (9000см2/(В·с) против 1500см2/(В·с)
у кремния), что позволяет производить
Рисунок 2. Упрощённая структура полевого транзистора с затвором Шоттки на арсениде галлия
Ещё одним преимуществом полупроводникового материала GaAs является большая ширина запрещённой зоны (
Итог:
Дата последнего обновления файла 10.09.2022